DLC 박막의 밀착력은 금속기재에 증착시 내마모성, 내화학안정성, 고경도 특성을 발휘할 수 있는 중요한 특성이다. 본 연구는 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)으로 제조한 DLC박막의 밀착력이 중간층(Cr, Si-C:H) 삽입을 통해 어떤 변화를 보이는지 고찰하였다. 중간층의 두께는 밀착력의 변화와 잔류응력의 변화를 가져왔다. Cr 중간층의 DLC 박막은 최대 12 N의 밀착력을 보였으며 잔류응력은 두께에 따라 증가하는 경향을 보였다. Si-C:H 중간층의 DLC 박막은 두께가 1 ㎛ 일 때 약 16 N 밀착력을 나타냈고 두께가 증가되면 밀착력은 감소하였다. 다층의 중간층의 경우 Cr/Si-C:H/DLC 박막의 밀착력이 최대 33 N 으로 가장 우수하였다. DLC 박막에서 Si-C:H 중간층은 전체 박막의 밀착력을 좌우하였다. Cr, Si-C:H 중간층의 형성을 통해 DLC 박막의 내부응력을 완화하였다.

Adhesion of DLC film is very significant property that exhibits wear resistance, chemical inertness and high hardness when being deposited to metal substrate. This study was considered that change adhesion of DLC film produced by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition can be presented through inserting interlayer(Cr, Si-C:H). The thickness of interlayer was result of changing adhesion and residual stress. It was showed that the maximum 12 N of adhesion is on DLC film of Cr interlayer, and that a tendency is to be increased residual stress depend on the thickness. DLC film of Si-C:H interlayer represented 16 N of adhesion at 1 ㎛, whereas adhesion is decreased when the thickness is increased. For the interlayer at multi-layer, it was the best that adhesion of Cr/Si-C:H/DLC film was 33 N. Si-C:H interlayer at DLC film controled adhesion of the whole film. It was relaxed the internal stress of DLC film produced by inserting Cr, Si-C:H interlayer.