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한국공업화학회
한국공업화학회 연구논문 초록집
Dry Etching of IZO Thin Films Using a C
2
F
6
/Ar Plasma
Dry Etching of IZO Thin Films Using a C
2
F
6
/Ar Plasma
조한나 , 민수련 , 이유에롱 , 정지원
한국공업화학회
2007.05
한국공업화학회 연구논문 초록집
2007권
93-93(1pages)
UCI
I410-ECN-0102-2021-500-000707934
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