닫기
216.73.216.29

지식을 담다. 지식을 나누다 KISS

Ai 검색 소개
Ai 검색 소개
상세검색
Ai 검색 소개
216.73.216.29
로그인
회원가입
close menu
한국공업화학회 한국공업화학회 연구논문 초록집 Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process： Numerical Study with a CFD Code
Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process： Numerical Study with a CFD Code
서승택 , 이용희 , 이광순
한국공업화학회 2004.10
한국공업화학회 연구논문 초록집 2004권 1호 309-309(1pages)
UCI I410-ECN-0102-2021-500-000862269
인용하기 URL 복사 보관함 담기
이 자료는 4페이지 이하의 자료입니다.
* 발행 기관의 요청으로 무료로 이용 가능한 자료입니다.
논문명
×