최적의 전해액 선정을 위한 전류-전압 특성고찰

박성우; 한상준; 이영균; 이우선; 서용진

한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 하계학술대회 논문집 최적의 전해액 선정을 위한 전류-전압 특성고찰

최적의 전해액 선정을 위한 전류-전압 특성고찰

Improvement of Current-Voltage Characteristics for optimization Electrolyte

박성우 ( Sung Woo Park ) , 한상준 ( Sang Jun Han ) , 이영균 ( Young Kyun ) , 이우선 ( Woo Sun Lee ) , 서용진 ( Yong Jin Seo )

한국전기전자재료학회 2008.06

한국전기전자재료학회 하계학술대회 논문집 2008권 544-544(1pages)

UCI I410-ECN-0102-2015-500-001796694

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초록

Metal-CMP 공정시 높은 압력을 가해 줌으로 인하여 금속배선의 디싱 현상과 에로젼 현상이 발생하고 다공성의 하부층에 균열이 생기는 문제점을 개선하고자, 낮은 하력에서 금속막의 광역 평탄화를 이룰 수 있는 ECMP(Electrochemical Chemical Mechanical Polishing)가 생겨나게 되었다. 본 논문에서는 다양한 전해액의 전류-전압 특성 곡선을 비교 분석하여, 패시베이션막이 형성되는 곳을 알 수 있었고, CV와 LSV 법을 통해 전기화학적인 특성을 고찰하였다.

키워드

electrochemical mechanical polishing

ECMP

electrolyte inter-metal dielectric

IMD

I-V curve

EDS

참고문헌 (0)

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