용매에 가용성이고 또한 성형이 가능한 각종 polysilane 유도체가 합성되면서 1980년대 이래 새로운 소재로서 많은 관심을 끌게 되었다. 저분자량 oligomer, 고리화합물, 고분자량의 polysilane 유도체를 합성하는 방법을 소개하고 Si-Si 결합과 또한 Si원자의 치환된 치환기의 종류에 따른 광화학반응 특성을 알아본다. 또한 polysilane은 탄화규소섬유의 precursor로, microelectronics에 있어서 photoresist로, photoconductor로, 그리고 free radical 중합반응에서 photoinitiator로 이용될 수 있는데 이들의 이용에 대한 최근의 연구결과들을 요약하여 소개한다.

Polysilane derivatives are attracting considerable attention as a new class of material since 1980. The preparation methods of low molecular weight, cyclic, and high molecular weight polysilane derivatives are described, and also photochemistry characteristics for silicon-silicon single bond and for the nature of the substituent on silicon backbone are discussed. Polysilanes may be used as a precursors to silicon carbide fiber, as photoresist in microelectronics, as photoconductor, and as photoinitatior for free radical polymerization.