PECVD 로 증착된 불화탄화규소질막의 구조 및 유전율 - 산업과학기술연구 논문집 - 충북대학교 산업과학기술연구소 - KISS

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충북대학교 산업과학기술연구소 산업과학기술연구 논문집 PECVD 로 증착된 불화탄화규소질막의 구조 및 유전율

PECVD 로 증착된 불화탄화규소질막의 구조 및 유전율

Structure and Dielectric Constant of Fluorocarbonated Siliceous Films Deposited by PECVD

류운선(Ryu Woon Sun),김기호(Kim Ki Ho),김경호(Kim Kyung Ho)

충북대학교 산업과학기술연구소 1998.12

산업과학기술연구 논문집 vol. 12 iss. 2 237-245(9pages)

UCI I410-ECN-0102-2009-500-009552928

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