KCI 등재
SCIE
SCOPUS
폴리이미드 기판에 극저온 Catalytic-CVD로 제조된 니켈실리사이드와 실리콘 나노박막
Nano-thick Nickel Silicide and Polycrystalline Silicon on Polyimide Substrate with Extremely Low Temperature Catalytic CVD
대한금속재료학회
2011.04
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