타원계측은 박막의 광학적 물성 분석에 있어 탁월한 성능을 가지고 있는 광학적 측정 기술이다. 타원계측에서는 타원계측각인 Ψ와 Δ를 측정하며, 이 각들은 p-편광과 s-편광 사이의 진폭 비율과 위상변화의 차로 각각 정의된다. 타원계측에서는 측정된 Ψ와 Δ에 대한 분석을 통해 시편의 두께와 복소 굴절률에 대한 정보를 얻을 수 있다. 본 연구에서는 타원계측과 Cauchy 및 Tauc Lorentz 모델을 사용하여 ArF용 반사방지 박막의 두께와 복소 굴절률을 분석하였다.

Spectroscopic Ellipsometry (SE) which is an optical measurement has an outstanding ability in analysis of thin Films. SE measures two ellipsometric angles of Ψ and Δ which arc defined as amplitude ratio and phase difference between p- and s-polarization, respectively. SE provides information on thickness and complex refractive index for a sample when measured data of Ψ and Δ are fitted by acing optical models for the sample, In this work, we obtained thickness and complex refractive indices of an anti-reflection coating (ARC) used for ArF photo-lithography using SE in which Cauchy and Tauc-Lorentz models were used.