BTMSM/O2 유량변화에 따른 SiOCH 박막의 저유전 특성 - 전기전자재료학회논문지(J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng.) - 한국전기전자재료학회 - KISS

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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지(J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng.) BTMSM/O2 유량변화에 따른 SiOCH 박막의 저유전 특성

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BTMSM/O2 유량변화에 따른 SiOCH 박막의 저유전 특성

Properties of SiOCH Thin Film Low Dielectric by BTMSM/O2 Flow Rates

박인철 ( In Cheol Park ) , 김홍배 ( Hong Bae Kim )

한국전기전자재료학회 2009.02

전기전자재료학회논문지(J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng.) vol. 22 iss. 2 132-136(5pages)

UCI I410-ECN-0102-2009-560-019988916

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