CMP 패드 강성에 따른 산화막 불균일성(WIWNU)에 관한 연구 - 전기전자재료학회논문지(J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng.) - 한국전기전자재료학회 - KISS

3.139.240.132

회원가입
로그인
고객센터
한국어 ENG

상세검색

3.139.240.132

한국어 ENG

고객센터

한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지(J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng.) CMP 패드 강성에 따른 산화막 불균일성(WIWNU)에 관한 연구

KCI 등재

CMP 패드 강성에 따른 산화막 불균일성(WIWNU)에 관한 연구

A Study on the Within Wafer Non-uniformity of Oxide Film in CMP

박기현 , 정재우 , 박범영 , 서헌덕 , 이현섭 , 정해도

한국전기전자재료학회 2005.06

전기전자재료학회논문지(J. Korean Inst. Electr. Electron. Mater. Eng.) 18권 6호 521-526(6pages)

UCI I410-ECN-0102-2009-560-001815277

더보기

인용하기 URL 복사 보관함 담기

초록

키워드

Within wafer non-uniformity

Chemical mechanical polishing

Apparent contact area

목차

참고문헌 (0)

[자료제공 : 네이버학술정보]

인용하기

KOR ENG

인용형식

저자명 년도 논문명 간행물명 권호 쪽수

저장형식

보관함 담기

선택하신 개의 자료를

에 담습니다.

KISS 콘텐츠를 사전 허가 없이 무단으로 크롤링 및 복제, 배포할 경우 민형사상 책임을 물을 수 있습니다.

개인정보취급방침

(10881) 경기도 파주시 회동길 230 한국학술정보(주)

고객센터 080-500-3181

대표이사 채종준

사업자등록번호 111-81-26181

통신판매업신고 파주-1250호

개인정보관리책임자 조동범

패밀리사이트

북토리

스탑북

Copyright KISS. All rights reserved. Ver. 1.0.3.7

LOGIN

기관대표계정

ID

password

회원가입 아이디/비밀번호 찾기

or

네이버로그인

카카오로그인

구글로그인

상세검색

˙ 검색어

˙ 주제분류

전체

인문학

사회과학

자연과학

공학

의약학

농수해양학

예술체육학

복합학

˙ 발행연도

전체 최근 1년

직접입력

~

˙ 서지자료

다운로드가 불가하고 서지정보만 제공하는 자료

제외 포함

×