MOCVD 법으로 증착한 RuO2 박막의 표면 거칠기 향상을 위한 기판 전처리 효과

The Effect of the Substrate Pretreatment for the Improvement of Surface Roughness of RuO2 , Thin Film by MOCVD

박성언 , 김현미 , 민석홍 , 김기범 ( Sung Eon Park , Hyun Mi Kim , Seok Hong Min , Ki Bum Kim )

대한금속재료학회 1998.01

대한금속학회회보 vol. 11 iss. 5 546-554(9pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-580-001199530

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