18.97.14.80
18.97.14.80
close menu
DRAM 캐패시터 응용을 위한 STO 유전체 박막의 전기적인 특성
The electrical characteristics of STO dielectric thia films for application of DRAM capacitor.
이우선(Woo Sun Lee), 오금곤(Guem Kon Oh), 김남오(Nam Oh Kim), 손경춘(Chang Su Chung), 정창수(Kyeong Choon Son), 정용호(Yong Ho Chung)
UCI I410-ECN-0102-2008-560-001249399
This article is 4 pages or less.
×