본문 바로가기
216.73.217.86
  • 회원가입
  • 로그인
  • 고객센터

지식을 담다. 지식을 나누다 KISS

Ai 검색 소개
Ai 검색 소개
상세검색
Ai 검색 소개
216.73.217.86
로그인
회원가입
한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 추계학술대회논문집 Cu 와 Si 사이에서 확산방지막으로 사용하기위한 ZrN 층의 연구
Cu 와 Si 사이에서 확산방지막으로 사용하기위한 ZrN 층의 연구
A study on ZrN layer as a diffusion barrier between Cu and Si
김창조(Chang Jo Kim), 김좌연(Jwa Yeon Kim), 윤의중(Eui Jung Yun), 이재갑(Jae Gab Lee)
한국전기전자재료학회 1998.01
한국전기전자재료학회 추계학술대회논문집 1998권 21-24(4pages)
UCI I410-ECN-0102-2008-560-001247360
인용하기 URL 복사 보관함 담기
이 자료는 4페이지 이하의 자료입니다.
논문명
×