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한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 추계학술대회논문집 Cu 와 Si 사이에서 확산방지막으로 사용하기위한 ZrN 층의 연구
Cu 와 Si 사이에서 확산방지막으로 사용하기위한 ZrN 층의 연구
A study on ZrN layer as a diffusion barrier between Cu and Si
김창조(Chang Jo Kim), 김좌연(Jwa Yeon Kim), 윤의중(Eui Jung Yun), 이재갑(Jae Gab Lee)
한국전기전자재료학회 1998.01
한국전기전자재료학회 추계학술대회논문집 vol. 1998 21-24(4pages)
UCI I410-ECN-0102-2008-560-001247360
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