Czochralski 법으로 제조된 실리콘 단결정 내의 Flow Pattern Defect 와 Large Pit 의 열적 거동 및 소자 수율에의 영향

Thermal Behavior of Flow Pattern Defect and Large Pit in Czochralski Silicon Crystals and Their Effects on Device Yield

송영민(Young M . Song), 조기현(Ki Hyun Cho), 김종오(Chong Oh Kim)

한국전기전자재료학회 1998.01

한국전기전자재료학회 추계학술대회논문집 1998권 17-20(4pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-560-001247375

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