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한국전기전자재료학회 한국전기전자재료학회 추계학술대회논문집 질화와 재산화를 이용한 얇은 게이트 산화막의 질적향상
질화와 재산화를 이용한 얇은 게이트 산화막의 질적향상
Improvement of Thin - Gate Oxide using Nitridation and Reoxidation
이정석(Jung Suk Lee), 장창덕(Chang Dug Jang), 이용재(Yong Jae Lee)
한국전기전자재료학회 1998.01
한국전기전자재료학회 추계학술대회논문집 vol. 1998 1-4(4pages)
UCI I410-ECN-0102-2008-560-001247411
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