PDP 용 유전체 보호막 재료 개발을 위한 연구 (1) ( 두께 최적화된 Al2O3/MgO 의 열처리 특성 )

A study for development of a dielectric protection layer in PDP (I) The annealing characteristics of thickness - optimized Al2O3/MgO

정진만(Jin Man Jeoung), 임기주(Ki Ju Yim), 신경(Kyung Shin), 이현용(Hyun Yong Lee), 정홍배(Hong Bay Chung)

한국전기전자재료학회 1998.01

한국전기전자재료학회 춘계학술대회논문집 1998권 117-120(4pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-560-001249546

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