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한국전기전자재료학회 E²M-전기 전자와 첨단 소재 Deposition of SiO2 and TiO2 Thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition for Antireflection Coating
Deposition of SiO2 and TiO2 Thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition for Antireflection Coating
( C . Martinet , V . Paillard , A . Gagnaire , J . Joseph )
한국전기전자재료학회 1998.12
E²M-전기 전자와 첨단 소재 11권 12호 77-77(1pages)
UCI I410-ECN-0102-2008-560-001249137
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