Hot Wall Epitaxy(HWE)법에 의한 CuAISe2 단결정 박막 성장과 열처리 효과

윤석진; 정태수; 이우선; 박진성; 신동찬; 홍광준; 이봉주

한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Hot Wall Epitaxy(HWE)법에 의한 CuAISe2 단결정 박막 성장과 열처리 효과

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The Effect of Thermal Annealing and Growth of CuAlSe2 Single Crystal Thin Film by Hot Wall Epitaxy

윤석진 ( Yun Seog Jin ) , 정태수 ( Jeong Tae Su ) , 이우선 ( Lee U Seon ) , 박진성 ( Park Jin Seong ) , 신동찬 ( Sin Dong Chan ) , 홍광준 ( Hong Gwang Jun ) , 이봉주 ( Lee Bong Ju )

한국전기전자재료학회 2003.10

전기전자재료학회논문지 vol. 16 iss. 10 871-880(10pages)

UCI I410-ECN-0102-2009-560-003240263

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Hot wall epitaxy

Single crystal thin film

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