ICP 에 의한 BCl3/Cl2 플라즈마 내에서 Pt 박막의 식각특성 - 전기전자재료학회논문지 - 한국전기전자재료학회 - KISS

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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 ICP 에 의한 BCl3/Cl2 플라즈마 내에서 Pt 박막의 식각특성

Candidate

ICP 에 의한 BCl3/Cl2 플라즈마 내에서 Pt 박막의 식각특성

Properties of the Pt Thin Film Etching in BCl3/Cl2 gas by Inductive Coupled Plasmas

김창일 , 권광호 ( Chang Il Kim , Kwang Ho Kwan )

한국전기전자재료학회 1998.10

전기전자재료학회논문지 vol. 11 iss. 10 804-808(5pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-560-001250490

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