고에너지 비소 이온주입후 2단계 열처리시 2차결함에 대한 연구 - 전기전자재료학회논문지 - 한국전기전자재료학회 - KISS

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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 고에너지 비소 이온주입후 2단계 열처리시 2차결함에 대한 연구

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고에너지 비소 이온주입후 2단계 열처리시 2차결함에 대한 연구

A Study on Secondary Defects in Silicon after 2-step Annealing of the High Energy As lon Implanted Silicon

윤상현 , 곽계달 ( Sahng Hyun Yoon , Kae Dal Kwack )

한국전기전자재료학회 1998.10

전기전자재료학회논문지 vol. 11 iss. 10 796-803(8pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-560-001250501

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