평면도파로형 광증폭기 제작을 위한 Er+ 이 첨가된 SiO2 박막 특성 - 전기전자재료학회논문지 - 한국전기전자재료학회 - KISS

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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 평면도파로형 광증폭기 제작을 위한 Er+ 이 첨가된 SiO2 박막 특성

Candidate

평면도파로형 광증폭기 제작을 위한 Er+ 이 첨가된 SiO2 박막 특성

The Characteristics of Er+ Doped SiO Thin Film for the Fabrication of the Planar Light Waveguide Amplifier

최영복 , 문동찬 ( Young Bok Choi , Dong Chan Moon )

한국전기전자재료학회 1998.09

전기전자재료학회논문지 vol. 11 iss. 9 739-745(7pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-560-001250607

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