닫기
216.73.216.106
  • 회원가입
  • 로그인
  • 고객센터

지식을 담다. 지식을 나누다 KISS

Ai 검색 소개
Ai 검색 소개
상세검색
Ai 검색 소개
216.73.216.106
로그인
회원가입
close menu
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 고주파 반응성 스퍼터링에 의해 제작된 InN 박막의 특성
KCI 후보
고주파 반응성 스퍼터링에 의해 제작된 InN 박막의 특성
Characteristics of InN thin films fabricated by RF reactive sputtering
김영호 , 최영복 , 정성훈 , 홍필영 , 문동찬 , 김선태 ( Young Ho Kim , Young Bok Choi , Sung Hoon Chung , Pil Young Hong , Dong Chan Moon , Sun Tae Kim )
한국전기전자재료학회 1998.07
전기전자재료학회논문지 11권 7호 527-534(8pages)
UCI I410-ECN-0102-2009-560-007352953
인용하기 URL 복사 보관함 담기
논문명
미리보기
×