CI2/CF4 플라즈마에 Ar , O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과 - 전기전자재료학회논문지 - 한국전기전자재료학회 - KISS

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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 CI2/CF4 플라즈마에 Ar , O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과

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CI2/CF4 플라즈마에 Ar , O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과

Reduce of Etching Damage of PZT Thin Films with Addition of Ar and O2 in CI2/CF4 Plasma

김경태(Kyoung Tae Kim),김창일(Chang Il Kim),강명구(Myoung Gu Kang)

한국전기전자재료학회 2002.04

전기전자재료학회논문지 vol. 15 iss. 4 319-324(6pages)

UCI I410-ECN-0102-2009-560-004503550

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