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한국공업화학회
한국공업화학회 연구논문 초록집
TEOS 의 CVD 법에 의해 γ- Alumina Film 상에 제조한 Silica 막의 기체투과기구
TEOS 의 CVD 법에 의해 γ- Alumina Film 상에 제조한 Silica 막의 기체투과기구
김성수 , 최주홍 , 박홍채 , 김태옥
한국공업화학회
1998.12
한국공업화학회 연구논문 초록집
1998권
136-136(1pages)
UCI
I410-ECN-0102-2009-570-007305923
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