ECR O2 plasma 에 의한 SiO2 / Si 박막성장

서영훈; 남기석; 서문석; 서성모; 장재선; 안명환; 윤창주; 이기방

한국공업화학회 한국공업화학회 연구논문 초록집 ECR O2 plasma 에 의한 SiO2 / Si 박막성장

ECR O2 plasma 에 의한 SiO2 / Si 박막성장

Growth of Silicon Dioxide film on Silicon using ECR O2 plasma

서영훈 , 남기석 , 서문석 , 서성모 , 장재선 , 안명환 , 윤창주 , 이기방 ( Y . H . Seo , K . S . Nahm , S . M . Seo , M . S . Seo , J . S . Jang , M . H . An , C . J . Yun , K . B . Lee )

한국공업화학회 1994.12

한국공업화학회 연구논문 초록집 vol. 1994 32-32(1pages)

UCI I410-ECN-0102-2009-570-007361170

More

Cite Copy URL Bookshelf

This article is 4 pages or less.

* This article is free of use.

Abstract

Keywords

Table of Contents

References (0)

[자료제공 : 네이버학술정보]