ECR plasma 장치에서 Si 의 식각각도 조절

한국공업화학회 한국공업화학회 연구논문 초록집 ECR plasma 장치에서 Si 의 식각각도 조절

Profile control of silicon etching in ECR plasma

윤민희 , 남기석 , 서성모 , 서문석 , 안명환 , 이기방 ( M . H . Yun , K . S . Nahm , S . M . Seo , M . S . Seo , M . H . An , K . B . Lee )

한국공업화학회 1994.12

한국공업화학회 연구논문 초록집 vol. 1994 31-31(1pages)

UCI I410-ECN-0102-2009-570-007361165

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