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한국공업화학회 한국공업화학회 연구논문 초록집 ECR plasma 장치에서 Si 의 식각각도 조절
ECR plasma 장치에서 Si 의 식각각도 조절
Profile control of silicon etching in ECR plasma
윤민희 ( M . H . Yun ) , 남기석 ( K . S . Nahm ) , 서성모 ( S . M . Seo ) , 서문석 ( M . S . Seo ) , 안명환 ( M . H . An ) , 이기방 ( K . B . Lee )
한국공업화학회 1994.12
한국공업화학회 연구논문 초록집 1994권 31-31(1pages)
UCI I410-ECN-0102-2009-570-007361165
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