열 CVD 법에 의한 ZnO 박막의 저온 합성 (4) - 회전원판수직형반응기에서의 적출거동 -

Preparation of ZnO Thin Film by Thermal CVD PART 4 Deposition Behaviors in Rotating Disk Reactor

김필성 , 문희 , 박홍철 ( Pil Sung Kim , Hee Moon , Heung Chul Park )

한국공업화학회 1992.12

한국공업화학회 연구논문 초록집 vol. 1992 96-96(1pages)

UCI I410-ECN-0102-2009-570-007360168

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