Compact ECR plasma 의 제작과 Si 의 식각 반응

한국공업화학회 한국공업화학회 연구논문 초록집 Compact ECR plasma 의 제작과 Si 의 식각 반응

Fabrication of Electron Cyclotron Resonance Plasma System and Silicon Etching Reaction

윤민희 , 남기석 , 서문석 , 박원일 , 이기방 ( M . H . Yun , K . S . Nahm , W . I . Park , M . S . Seo , K . B . Lee )

한국공업화학회 1992.12

한국공업화학회 연구논문 초록집 1992권 91-91(1pages)

UCI I410-ECN-0102-2009-570-007360113

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