감광성 orthonaphthoquinonediazide-sulfonyl 유도체를 합성하고, 그 감광특성에 대해 검토한 결과, UV 에 의해 광변환 되어, 알칼리 가용성의 분해화합물이 생성됨을 확인하였다. 유도체를 PAC로, m-cresol novolac을 matrix resin으로 photoresist를 제조하고 감광 특성을 고찰하여, 미세 패턴용 photoresist 로의 타당성을 확인하였다. 3, 4, 5-Trihydroxybenzophenone의 벌키한 공명 구조는 노광부의 감도와 가용성을 향상시켰으며, PAC와 matrix resin의 혼합 무게비가 3 : 8일 때 가장 적절한 dissolution rate를 나타냈으므로, 이 photoresist 가 정해진 조건 하에서 감도, 해상력이 가장 우수하였다.

Synthesis and characterization of photosensitive orthonaphthoquinonediazide-sulfonyl derivatives were studied. These photoactive compounds underwent a UV induced transformation to the base-soluble photoproduct. The photoresists were prepared using these photoactive compounds with low molecular weight m-cresol novolacs as matrix resin. And photosensitive characteristics of the photoresists were studied. 3, 4, 5-Trihydroxybenzophenone with bulky resonance structure increased the sensitivity and the solubility rate of the exposed region. The mixture of PAC and matrix resin having 3 : 8 weight ratio had the moderate rate of dissolution in the developer. The photoresist using these conditions showed the best snsitivity and contrast under the fixed conditions.