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실리콘 웨이퍼 표면의 미소거칠기 향상을 위한 연마공정의 최적화
Polishing Process Optimization for Microroughness Imyrovement of Silicon Wafer Surface
장기영(Ki Young Jang),남효덕(Hyo Duk Nam),김현태(Hyun Tae Kim)
UCI I410-ECN-0102-2009-560-005888852
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