코발트 이온과 stearic acid를 이용하여 랑뮤어-블라젯 혼성막(CoSt₂막)을 제조한 후, UV 및 골격화(skeletonization)의 후처리 과정을 거쳐 유기물을 제거함으로써 플라즈마 처리 방법 혹은 H₂S처리 방법과 같은 기존의 후처리 과정에 비해 조작이 용이하고 효율적인 후처리 방식을 제안하고자 하였다. 코발트 이온의 농도와 pH를 변화시키면서 상전이가 일어나지 않고 분자들이 고르게 배열하는 최적 조건을 찾아 CoSt₂ 막을 제조하였으며, 제조된 CoSt₂막을 UV 조사 및 골격화 과정을 통해 후처리하였다. UV처리를 위해 정제수를 CoSt₂막에 첨가한 후 UV 램프를 약 12시간 정도 조사하였고, 약하게 교반하고 있는 벤젠에 CoSt₂막을 약 30분 동안 담금으로써 골격화를 수행하였다. 표면 분석 결과, 골격화를 우선 수행하거나 대기중에서 UV램프를 조사한 경우에는 유기물이 코발트 이온과 상대적으로 큰 입자를 형성하고 서로 엉겨 있는 형태로 있어 유기물의 제거가 어려움을 알 수 있었다. 그에 비해 정제수를 CoSt₂막에 첨가하여 UV를 조사한 후 골격화한 경우에는 10 ㎚이하의 미세입자가 고르게 분산되는 것을 확인할 수 있었다.

Langmuir-Blodgett hybrid films (CoSt₂) were prepared with cobalt ion and stearic acid. We proposed a new posttreatment process which is easier and more efficient than the commonly used mehtods such as plasma treatment or H₂S gas treatment. LB films were prepared depending on concentrations, pHs of subphase solution and the dipping number. In this study, UV treatment in the presence of H₂O molecules sequencing skeletonization was proposed as a post-treatment technique; LB film is irradiated by UV lamp with water for 12 hours, followed by immersion of LB film into benzene stirred for 30 minutes. Analysis results of morphology for either skeletonization only or UV treatment showed that relatively large size particles (∼50 ㎚) were formed, while UV treatment with water sequencing skeletonization showed that particle size formed on the substrate decreased up to 10 ㎚ and cobalt molecules had regular electron pattern.