18.97.14.81
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CeO2 첨가와 도포물질의 입자크기가 확산공정을 이용한 고온초전도 후막의 특성에 미치는 영향
Effect of CeO2 - addition and Particle Size of Doping Material on Characteristic of High - Tc , Superconducting Thick Film Using Diffusion Process
임성훈(Sung Hun Lim),강형곤(Hyeong Gon Kang),홍세온(Se Eun Hong),윤기웅(Ki Woong Youn),황종선(Chong Sun Hwang),한병성(Byung Sung Han)
UCI I410-ECN-0102-2009-560-006545774
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