반도체 / 도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl2/HBr/O2 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과

Candidate

Notching Effect during the Etching of Undoped Amorphous Silicon using High Density Cl2/HBr/O2 Plasma

유석빈(Seok Bin Yu),김남훈(Nam Hoon Kim),김창일(Chang Il Kim),장의구(Eui Goo Chang)

한국전기전자재료학회 2000.08

전기전자재료학회논문지 vol. 13 iss. 8 651-657(7pages)

UCI I410-ECN-0102-2009-560-006549656

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