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한국화학공학회
한국화학공학회 추계학술발표논문집
비정질 실리콘 박막에 미치는 PECVD 공정 변수의 영향
비정질 실리콘 박막에 미치는 PECVD 공정 변수의 영향
Effects of PECVD Process Parameters on a - Si : H thin Films
김진홍(Jin Hong Kim), 우성일(SEong Ihl Woo), 김용태(Yong Tae Kim), 민석기(Suk Ki Min)
한국화학공학회
1988.01
한국화학공학회 추계학술발표논문집
vol. 1988
70-71(2pages)
UCI
I410-ECN-0102-2008-570-001890556
₩ 1,000
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