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비정질 실리콘 박막에 미치는 PECVD 공정 변수의 영향
Effects of PECVD Process Parameters on a - Si : H thin Films
김진홍(Jin Hong Kim), 우성일(SEong Ihl Woo), 김용태(Yong Tae Kim), 민석기(Suk Ki Min)
UCI I410-ECN-0102-2008-570-001890556
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