ECR 플라즈마를 이용한 화학증착법및 건식산화법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 특성

Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition and Dry Oxidation Method Using ECR Plasma Sources

전법주 , 허정수 , 오인환 , 임태훈 , 윤용수 , 정일현 ( Bup Ju Jeon , Jung Soo Heo , In Hwan Oh , Tae Hoon Lim , Yong Soo Youn , Il Hyun Jung )

한국화학공학회 1996.01

화학공학의 이론과 응용 vol. 2 iss. 1 933-936(4pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-570-001891806

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