18.97.14.88
  • Join
  • Login
  • CS

지식을 담다. 지식을 나누다 KISS

Advanced Search
18.97.14.88
Login
Join
close menu
한국화학공학회 한국화학공학회 춘계학술발표논문집 원거리 플라즈마 화학 증착법에 의한 저온 산화막 제조시 염소 기체 첨가 효과
원거리 플라즈마 화학 증착법에 의한 저온 산화막 제조시 염소 기체 첨가 효과
Effect of the chlorine addition on the low temperature silicon oxide thin film deposition using Remote - PECVD
박영배(Y . B . Park), 이시우(Shi Woo Rhee)
한국화학공학회 1994.01
한국화학공학회 춘계학술발표논문집 vol. 1994 93-93(1pages)
UCI I410-ECN-0102-2008-570-001928520
Cite Copy URL Bookshelf
This article is 4 pages or less.
논문명
×