3. 학술발표 제 3 분과 ; 이온 주입 실리콘 웨이퍼의 경사각 변화에 따른 이온 반사율에 관한 연구
A study on the Ion Reflective Index by the Oblique Degree Variation of Ion Implantation on Si - Wafer
한국전기전자재료학회
1989.01
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