2단계 RTD 방법에 의한 N+P 접합 티타늄 실리사이드 특성연구 - 전기전자재료학회논문지 - 한국전기전자재료학회 - KISS

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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2단계 RTD 방법에 의한 N+P 접합 티타늄 실리사이드 특성연구

2단계 RTD 방법에 의한 N+P 접합 티타늄 실리사이드 특성연구

The Characterization for the Ti - Silicide of N+P Junction by 2 Step RTD

최도영 윤석범 오환술 ( Do Yong Choi , Seuk Bum Yoon , Whan Sul Oh )

한국전기전자재료학회 1995.01

전기전자재료학회논문지 vol. 8 iss. 6 737-742(6pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-560-002016278

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