반응성 직류마그네트론 스퍼터링에 의한 ITO 박막 형성에 관한 연구 - 전기전자재료학회논문지 - 한국전기전자재료학회 - KISS

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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 반응성 직류마그네트론 스퍼터링에 의한 ITO 박막 형성에 관한 연구

반응성 직류마그네트론 스퍼터링에 의한 ITO 박막 형성에 관한 연구

The Study on Formation of ITO by DC Reactive Magnetron Sputtering

하홍주 조정수 박정후 ( Ha Hong Ju , Cho Jung Soo , Park Chung Hoo )

한국전기전자재료학회 1995.01

전기전자재료학회논문지 vol. 8 iss. 6 699-707(9pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-560-002016329

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