Spectroscopic Ellipsometer 를 이용한 삼원 SiO 박막의 증착조건에 따른 유전율특성 - 전기전자재료학회논문지 - 한국전기전자재료학회 - KISS

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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Spectroscopic Ellipsometer 를 이용한 삼원 SiO 박막의 증착조건에 따른 유전율특성

Spectroscopic Ellipsometer 를 이용한 삼원 SiO 박막의 증착조건에 따른 유전율특성

The Dielectric Properties of Triple SiO Thin Film using Spectroscopic Ellipsometer

김창석 황석영 ( Chang Suk Kim , Suck Young Hwang )

한국전기전자재료학회 1995.01

전기전자재료학회논문지 vol. 8 iss. 2 129-135(7pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-560-002016889

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