반응성 마그네트론 스파트링 프로세스의 제작 및 AI 계 박막형성에 관한 연구 - 전기전자재료학회논문지 - 한국전기전자재료학회 - KISS

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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 반응성 마그네트론 스파트링 프로세스의 제작 및 AI 계 박막형성에 관한 연구

반응성 마그네트론 스파트링 프로세스의 제작 및 AI 계 박막형성에 관한 연구

Study on Reactive magnetron Sputtering process and Thin Film of AIN

박정후 김광화 조정수 곽영순 ( Chung Hoo Paek , Kwang Hwa Kim , Jung Soo Cho , Young Soon Kwak )

한국전기전자재료학회 1991.01

전기전자재료학회논문지 vol. 4 iss. 3 239-248(10pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-560-002018747

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