Co60 - γ 선 조사에 따른 MOS 구조의 계면 및 산화막내에서의 특성변화 - 전기전자재료학회논문지 - 한국전기전자재료학회 - KISS

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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 Co60 - γ 선 조사에 따른 MOS 구조의 계면 및 산화막내에서의 특성변화

Co60 - γ 선 조사에 따른 MOS 구조의 계면 및 산화막내에서의 특성변화

The Variation of Characteristics Induced by Co60 - γ ray at the Interface and Oxide Layer of MOS Structure

김봉흡 류부형 이상돈 ( Bong Heup Kim , Boo Hyung Ryu , Sang Don Lee )

한국전기전자재료학회 1988.01

전기전자재료학회논문지 vol. 1 iss. 3 269-277(9pages)

UCI I410-ECN-0102-2008-560-002019360

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