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대한금속재료학회(구 대한금속학회)> Semiconductor Wafor Cleaning and Surface Characterization> Session 1 - Cleaning : Silicon Wafer Cleaning 이 Gate Oxide 특성에 미치는 영향

Session 1 - Cleaning : Silicon Wafer Cleaning 이 Gate Oxide 특성에 미치는 영향

이완기 , 김우진 , 이주영 , 박헌섭 , 최수한
  • : 대한금속재료학회(구 대한금속학회)
  • : Semiconductor Wafor Cleaning and Surface Characterization 0권0호
  • : 연속간행물
  • : 1992년
  • : 93-96(4pages)

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UCI(KEPA)

I410-ECN-0102-2009-580-007389085

간행물정보

  • : 공학분야  > 금속공학
  • :
  • :
  • : 기타
  • :
  • :
  • : 학술지
  • : 연속간행물
  • : 1992-1992
  • : 16


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2General Session : LIFETIME CHARACTERIZATION FOR SEMICONDUCTOR PROCESS CONTROL

저자 : D . K . Schroder

발행기관 : 대한금속재료학회(구 대한금속학회) 간행물 : Semiconductor Wafor Cleaning and Surface Characterization 0권 0호 발행 연도 : 1992 페이지 : pp. 53-79 (27 pages)

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4Session 1 - Cleaning : Silicon Wafer Cleaning 이 Gate Oxide 특성에 미치는 영향

저자 : 이완기 , 김우진 , 이주영 , 박헌섭 , 최수한

발행기관 : 대한금속재료학회(구 대한금속학회) 간행물 : Semiconductor Wafor Cleaning and Surface Characterization 0권 0호 발행 연도 : 1992 페이지 : pp. 93-96 (4 pages)

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5Session 1 - Cleaning : Fe Observation on Cleaned P - type Si Wafers by Surface Photovoltage Method

저자 : K . Ryoo , H . Kim , G . Seo , J . H . Lee , J . Koh

발행기관 : 대한금속재료학회(구 대한금속학회) 간행물 : Semiconductor Wafor Cleaning and Surface Characterization 0권 0호 발행 연도 : 1992 페이지 : pp. 97-106 (10 pages)

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6Session 1 - Cleaning : CLEANING SCHEME FOR REMOVING OXIDE ETCH RESIDUE

저자 : JAE JEONG KIM , JAE SEONG ROH , WOO SHIK KIM

발행기관 : 대한금속재료학회(구 대한금속학회) 간행물 : Semiconductor Wafor Cleaning and Surface Characterization 0권 0호 발행 연도 : 1992 페이지 : pp. 107-110 (4 pages)

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7Session 1 - Cleaning : SIMS 를 이용한 Si wafer 표면의 불순물 분석

저자 : 곽병화 , 권오준 , 현영철 , 이승창

발행기관 : 대한금속재료학회(구 대한금속학회) 간행물 : Semiconductor Wafor Cleaning and Surface Characterization 0권 0호 발행 연도 : 1992 페이지 : pp. 111-112 (2 pages)

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8Session 1 - Cleaning : EFFECTS OF METALLIC IMPURITIES UPON THIN GATE OXIDE INTEGRITY AND RELATED BULK PROPERTIES IN CZ Si

저자 : K . C . Cho , J . G . Park , Y . S . Kwak , D . J . Lee , D . S . Lim , C . K . Shin , S . Hahn , W . L . Smith

발행기관 : 대한금속재료학회(구 대한금속학회) 간행물 : Semiconductor Wafor Cleaning and Surface Characterization 0권 0호 발행 연도 : 1992 페이지 : pp. 113-125 (13 pages)

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9Session 1 - Cleaning : Atomically clean Si surface and its reaction with Ti

저자 : Hyeong Tag Jeon , Jae Won Cho , R . J . Nemanich

발행기관 : 대한금속재료학회(구 대한금속학회) 간행물 : Semiconductor Wafor Cleaning and Surface Characterization 0권 0호 발행 연도 : 1992 페이지 : pp. 126-129 (4 pages)

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